[发明专利]掩膜块、掩膜版及掩膜版的制造方法在审
申请号: | 201610288874.0 | 申请日: | 2016-05-03 |
公开(公告)号: | CN105951040A | 公开(公告)日: | 2016-09-21 |
发明(设计)人: | 辛宇;钱栋;张继帅;李旺;沈永财 | 申请(专利权)人: | 上海天马有机发光显示技术有限公司;天马微电子股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆;胡彬 |
地址: | 200120 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明所提供了一种掩膜块,掩膜版及掩膜版的制造方法。所述掩膜块包括:至少一个功能部;包围所述功能部的支撑部;以及至少一个开口,设置于所述功能部;由于功能部具有较小的厚度,并且是通过一次刻蚀步骤即可形成mask开口,因而可以降低真空蒸镀遮蔽效应的影响,有利于提高产品的开口率和解析度,同时本发明工艺容易达成,且容易获得较高的刻蚀精度。 | ||
搜索关键词: | 掩膜块 掩膜版 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种掩膜块,包括:至少一个功能部;包围所述功能部的支撑部;以及至少一个开口,设置于所述功能部;其特征在于,所述开口为所述功能部通过一次刻蚀形成。
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