[发明专利]检测装置、测量装置、光刻装置和制造物品的方法有效
| 申请号： | 201610262881.3 | 申请日： | 2016-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN106094442B | 公开（公告）日： | 2019-06-11 |
| 发明（设计）人： | 前田普教 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 宋岩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 公开了检测装置、测量装置、光刻装置和制造物品的方法。本发明提供了一种检测装置，其使光倾斜地入射在包括折射率彼此不同的多个层的基板上并且使用从该基板反射的光来检测该基板的高度，该装置包括光学系统，该光学系统包括用于减少s偏振光的偏振器并且被配置为使其中s偏振光已通过偏振器减少的光以40°至55°范围内的入射角入射在基板上。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 装置 测量 光刻 制造 物品 方法 | ||
【主权项】：
1.一种检测装置，使光倾斜地入射在包括折射率彼此不同的顶层和相邻的下层的基板上并且使用从在顶层和相邻的下层之间的界面反射的光来检测所述界面的高度，其特征在于，该装置包括：光学系统，包括用于从包含p偏振光和s偏振光的光中在不完全除去s偏振光的情况下减少s偏振光的偏振器，并且被配置为使其中s偏振光已通过偏振器减少的光以比布儒斯特角小10°±3°的入射角入射在所述基板上。
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