[发明专利]单槽双闪耀角光栅制备方法在审
| 申请号： | 201610258772.4 | 申请日： | 2016-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN105700052A | 公开（公告）日： | 2016-06-22 |
| 发明（设计）人： | 黄元申;董成成;盛斌;孙乐;倪争技;周红艳;张大伟 | 申请（专利权）人： | 上海理工大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人： | 吴宝根 |
| 地址： | 200093 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种单槽双闪耀角光栅制备方法，涉及光学器件技术领域，所解决的是简化光谱仪器结构，降低光谱仪器成本的技术问题。该方法先获取被测产品中的两种被测物质的特征光谱，并计算出该两种被测物质的特征光谱的光栅闪耀角度；再在金刚石刻刀的刀刃上研磨出两种被测物质的特征光谱的光栅闪耀角；然后再利用研磨所得的金刚石刻刀及光栅机械刻划机，将镀有反射膜的光栅基片刻制成单槽双闪耀角光栅。本发明提供的方法，能制备出具有双闪耀现象的光栅。 | ||
| 搜索关键词： | 单槽双 闪耀 光栅 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种单槽双闪耀角光栅制备方法，其特征在于，具体步骤如下：1）获取被测产品中的两种被测物质的特征光谱，并计算出该两种被测物质的特征光谱的光栅闪耀角度；2）根据步骤1的计算结果，在用于刻制光栅的金刚石刻刀的刀刃上研磨出两种被测物质的特征光谱的光栅闪耀角；3）利用步骤2研磨所得的金刚石刻刀及光栅机械刻划机，将镀有反射膜的光栅基片刻制成单槽双闪耀角光栅。
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