[发明专利]镍锡合金纳米孔阵列及其制备方法有效
| 申请号： | 201610230558.8 | 申请日： | 2016-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN105761943B | 公开（公告）日： | 2018-07-10 |
| 发明（设计）人： | 付群;王欣;赵华平;明杰;张成林;雷勇;吴明红 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | H01G11/26 | 分类号： | H01G11/26;H01G11/30;H01G11/86;H01M4/38;H01M4/04;H01M4/86;H01M4/88 |
| 代理公司： | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人： | 顾勇华 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种镍锡合金纳米孔阵列及其制备方法。本发明是基于大孔阳极氧化铝模板的结构特性制备得到大面积有序、可控的镍锡合金纳米孔阵列。所述的纳米孔的直径为200~400nm，长度1~6μm。本发明制备的镍锡合金纳米孔阵列具有大的比表面积，垂直的孔道结构、高的导电性以及结构稳定性。本发明方法，可以根据模板的结构参数调节镍锡合金纳米孔阵列的结构参数，同时还可以实现不同金属纳米孔阵列的制备，具有制备工艺简单，成本低廉，重复性好等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米孔阵列 镍锡合金 制备 结构参数 阳极氧化铝模板 导电性 结构稳定性 结构特性 金属纳米 孔道结构 制备工艺 垂直的 可控的 孔阵列 纳米孔 大孔 | ||
【主权项】：
1.一种镍锡合金纳米孔阵列，其特征在于，该纳米孔阵列为具有高度有序排列的垂直孔道结构，所述的纳米孔的直径为200～400nm，长度为1～6μm；所述镍锡合金纳米孔阵列的制备方法的具体步骤为：a.将铝箔进行清洗、电化学抛光后，通过纳米压印技术在铝箔表面留下凹坑，再进行扩孔处理；b.将步骤a所得铝箔表面进行金膜沉积、聚合物的灌注、模板的去除、电化学沉积、聚合物的溶解，最后得到镍锡合金纳米孔阵列。
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