[发明专利]一种提高背光源亮度的衬底制作方法在审
| 申请号： | 201610219660.8 | 申请日： | 2016-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN105845789A | 公开（公告）日： | 2016-08-10 |
| 发明（设计）人： | 林志伟;陈凯轩;张永;卓祥景;姜伟;方天足 | 申请（专利权）人： | 厦门乾照光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00 |
| 代理公司： | 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 | 代理人： | 廖吉保;唐绍烈 |
| 地址： | 361000 福建省厦门市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开一种提高背光源亮度的衬底制作方法，一种提高背光源亮度的衬底制作方法，包括以下步骤：一，提供衬底，在衬底上通过掩膜、光刻，形成凸起的立体状光刻胶图形；二，采用ICP蚀刻，把立体状光刻胶图形转移至衬底表面，形成凸起的立体图案；三，在衬底上通过掩膜、光刻，形成凹陷的立体状光刻胶图形；四，采用ICP蚀刻，把立体状光刻胶图形转移至衬底表面，形成凹陷的立体图案，形成相邻凸起的立体图案之间设置凹陷的立体图案的衬底。本发明可以获得更好的单向性光源，且有效提高发光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 背光源 亮度 衬底 制作方法 | ||
【主权项】：
一种提高背光源亮度的衬底制作方法，其特征在于：包括以下步骤：一，提供衬底，在衬底上通过掩膜、光刻，形成凸起的立体状光刻胶图形；二，采用ICP蚀刻，把立体状光刻胶图形转移至衬底表面，形成凸起的立体图案；三，在衬底上通过掩膜、光刻，形成凹陷的立体状光刻胶图形；四，采用ICP蚀刻，把立体状光刻胶图形转移至衬底表面，形成凹陷的立体图案，形成相邻凸起的立体图案之间设置凹陷的立体图案的衬底。
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