[发明专利]过压保护结构在审
| 申请号： | 201610149861.5 | 申请日： | 2016-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN107204611A | 公开（公告）日： | 2017-09-26 |
| 发明（设计）人： | 吕宇强 | 申请（专利权）人： | 帝奥微电子有限公司 |
| 主分类号： | H02H9/04 | 分类号： | H02H9/04 |
| 代理公司： | 上海宏威知识产权代理有限公司31250 | 代理人： | 袁辉 |
| 地址： | 201103 上海市闵行区合*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种过压保护结构，应用于集成电路中，包括过压保护管、RC耦合电路以及电压钳位电路。该过压保护管的漏极为输入端，源极接地；该RC耦合电路包括一电阻，该电阻一端接地，另一端连接至该过压保护管的栅极；以及该电压钳位电路连接于该过压保护管的栅极与漏极之间，包括至少一正偏串联的二极管，该过压保护结构具有静电放电及电过应力保护能力。 | ||
| 搜索关键词： | 保护 结构 | ||
【主权项】：
一种过压保护结构，应用于集成电路中，其特征在于，包括：过压保护管，包括漏极、源极与栅极，其中该漏极为输入端，该源极接地；RC耦合电路，包括一电阻，该电阻一端接地，另一端连接至该过压保护管的该栅极；以及电压钳位电路，连接于该过压保护管的栅极与漏极之间，该电压钳位电路包括至少一正偏串联的二极管。
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