[发明专利]具有功能化涂层的光学装置以及用于此光学装置的方法在审
申请号: | 201610136087.4 | 申请日: | 2016-03-10 |
公开(公告)号: | CN105974498A | 公开(公告)日: | 2016-09-28 |
发明(设计)人: | G·艾尔维厄 | 申请(专利权)人: | 埃西勒国际通用光学公司 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;G02B1/14 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 张振军;刘娜 |
地址: | 法国沙*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明涉及一种光学装置,该光学装置包含基底,该基底具有两个主面、并且在至少一个面上具有与第二涂层接触的第一涂层,该第一涂层位于该第二涂层与该基底之间,该第一涂层是释放层、被适配为使得其可以被选择性地活化以便减小使该第二涂层能够固定到该基底上的机械特性或粘附性。 | ||
搜索关键词: | 具有 功能 涂层 光学 装置 以及 用于 方法 | ||
【主权项】:
光学装置,该光学装置包含基底(1,31,40),该基底具有两个主面并且在至少一个面上具有第一涂层(3,33,43,53),该第一涂层与第二涂层(2,34,44,52)接触,该第一涂层(3,33,43,53)位于该第二涂层(2,34,44,52)与该基底(1,31,40)之间,该第一涂层(3,33,43,53)是释放层(3,33,43,53)、被适配为使得其可以被选择性地活化以便减小使该第二涂层(2,34,44,52)能够固定到该基底(1,31,40)上的机械特性或粘附性。
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