[发明专利]用于化学气相沉积的具有铁磁流体密封件的转盘反应器

摘要

一种用于化学汽相沉积的转盘反应器，其包括真空室和铁磁流体穿通件，该铁磁流体穿通件包括上部和下部铁磁流体密封件，马达轴通过该铁磁流体穿通件进入真空室中。马达联接至马达轴，并且定位在上部和下部铁磁流体密封件之间的大气区域中。转台定位在真空室中，并且联接至马达轴，从而马达按所需转速转动转台。介电支架联接至转台，从而转台当由轴驱动时转动介电支架。基片载体定位在用于化学汽相沉积处理的真空室中的介电支架上。加热器定位成靠近基片载体，该加热器将基片载体的温度控制到化学汽相沉积所需的温度。

主权项

1.一种用于化学气相沉积的单基片载体，所述基片载体包括：a)本体；b)顶部表面，其具有用来接纳基片的凹入区域；c)圆化边缘，其具有减小热损失和增进流过所述基片的工艺气体的均匀性的形状；d)大致平坦表面，其位于所述圆化边缘的底部，用来定位在转动空心圆筒介电支架的顶部上；以及e)竖向边沿，其定位成靠近所述圆化边缘，该竖向边沿与所述转动空心圆筒介电支架的内表面对准，其中，所述转动空心圆筒介电支架和所述基片载体各具有的热膨胀系数被选择为使得在所述转动空心圆筒介电支架的所述内表面和所述竖向边沿之间的间隙在操作中减小以便更牢固地保持所述基片载体从而减小摆动。