[发明专利]减反射增透玻璃及其制备方法有效
申请号: | 201610098547.9 | 申请日: | 2016-02-23 |
公开(公告)号: | CN105601120B | 公开(公告)日: | 2018-09-25 |
发明(设计)人: | 运如靖 | 申请(专利权)人: | 广州视睿电子科技有限公司 |
主分类号: | C03C17/09 | 分类号: | C03C17/09;C03C17/00 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 李海恬;张春耀 |
地址: | 510663 广东省广州市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种减反射增透玻璃及其制备方法,属于玻璃镀膜技术领域。该减反射增透玻璃通过以下方法制备得到:增透处理:取玻璃基材,以磁控溅射方法在所述玻璃基材的一面溅射形成增透薄膜;防眩处理:以喷雾的方式在所述玻璃基材的另一面喷涂防眩膜层材料,并使该防眩膜层材料固化,在玻璃基材的表面形成表面粗糙的防眩膜。采用上述制备方法得到的减反射增透玻璃,具有非常好的防眩增透效果,特别是用于智能交互平板中作为保护盖板,既可以防止强光导致的反射,也可以通过提高透过率而带来清晰度的提升。 | ||
搜索关键词: | 反射 玻璃 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种减反射增透玻璃的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:增透处理:取玻璃基材,以磁控溅射方法在所述玻璃基材的一面溅射形成增透薄膜;防眩处理:以喷雾的方式在所述玻璃基材的另一面喷涂防眩膜层材料,并使该防眩膜层材料固化,在玻璃基材的表面形成表面粗糙的防眩膜;所述增透处理步骤中,磁控溅射方法的工艺条件为:真空度为2×10‑5torr‑5×10‑5torr,采用射频电源,该射频电源的频率为10MHz‑15MHz,功率变化范围为2000W‑3000W,溅射气压为0.3Pa‑0.9Pa,靶基距为70mm‑90mm,Ar气流量为160sccm‑180sccm,基片温度为110℃‑150℃,反应气体为:氮气、氧气、甲烷、乙炔、和一氧化碳中的至少一种,溅射靶材为:镍、银、钛、和金中的至少一种。
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