[发明专利]一种三族氮化物基双异质结光电晶体管有效

专利信息
申请号: 201610095411.2 申请日: 2016-02-22
公开(公告)号: CN105742399B 公开(公告)日: 2018-02-06
发明(设计)人: 江灏;张灵霞;唐韶吉 申请(专利权)人: 中山大学
主分类号: H01L31/11 分类号: H01L31/11;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司44102 代理人: 陈卫
地址: 510275 *** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种三族氮化物基双异质结光电晶体管,属于半导体器件技术领域。一种三族氮化物基双异质结光电晶体管及其制备方法,包括衬底及生长于衬底之上的外延层,外延层自下而上的顺序依次为缓冲层或过渡层,施主重掺杂欧姆接触层,合金组分渐变层,较大禁带宽度材料的施主掺杂层,较大禁带宽度材料的非故意掺杂层,受主掺杂层,非故意掺杂光吸收层,合金组分渐变层,较大禁带宽度材料的施主掺杂窗口层。本发明采用集电区上置结构,并采用禁带宽度较光吸收层大的三族氮化物多元合金材料作为入射光的窗口层,提高量子效率,增加光生空穴数量,从而提高器件的光电增益;在下置的发射区中采用反向异质结作为发射结,并导入较大禁带宽度材料的非故意掺杂层作为受主掺杂扩散阻挡层及基区‑发射区异质界面能带凹陷补偿层,提高晶体管电子注入效率。本发明具有光电增益高、器件性能稳定等特点。
搜索关键词: 一种 氮化物 基双异质结 光电晶体管
【主权项】:
一种三族氮化物基双异质结光电晶体管,其特征在于,包括衬底(101)及生长于衬底(101)之上的外延层,其中,外延层自下而上的顺序依次为缓冲层或者过渡层(102),施主重掺杂欧姆接触层(103),合金组分渐变层(104),较大禁带宽度材料的施主掺杂层(105),较大禁带宽度材料的非故意掺杂层(106),受主掺杂层(107),非故意掺杂光吸收层(108),合金组分渐变层(109),较大禁带宽度材料的施主掺杂层(110)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中山大学,未经中山大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610095411.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top