[发明专利]一种三族氮化物基双异质结光电晶体管有效
申请号: | 201610095411.2 | 申请日: | 2016-02-22 |
公开(公告)号: | CN105742399B | 公开(公告)日: | 2018-02-06 |
发明(设计)人: | 江灏;张灵霞;唐韶吉 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
主分类号: | H01L31/11 | 分类号: | H01L31/11;H01L31/0352;H01L31/18 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司44102 | 代理人: | 陈卫 |
地址: | 510275 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种三族氮化物基双异质结光电晶体管,属于半导体器件技术领域。一种三族氮化物基双异质结光电晶体管及其制备方法,包括衬底及生长于衬底之上的外延层,外延层自下而上的顺序依次为缓冲层或过渡层,施主重掺杂欧姆接触层,合金组分渐变层,较大禁带宽度材料的施主掺杂层,较大禁带宽度材料的非故意掺杂层,受主掺杂层,非故意掺杂光吸收层,合金组分渐变层,较大禁带宽度材料的施主掺杂窗口层。本发明采用集电区上置结构,并采用禁带宽度较光吸收层大的三族氮化物多元合金材料作为入射光的窗口层,提高量子效率,增加光生空穴数量,从而提高器件的光电增益;在下置的发射区中采用反向异质结作为发射结,并导入较大禁带宽度材料的非故意掺杂层作为受主掺杂扩散阻挡层及基区‑发射区异质界面能带凹陷补偿层,提高晶体管电子注入效率。本发明具有光电增益高、器件性能稳定等特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 氮化物 基双异质结 光电晶体管 | ||
【主权项】:
一种三族氮化物基双异质结光电晶体管,其特征在于,包括衬底(101)及生长于衬底(101)之上的外延层,其中,外延层自下而上的顺序依次为缓冲层或者过渡层(102),施主重掺杂欧姆接触层(103),合金组分渐变层(104),较大禁带宽度材料的施主掺杂层(105),较大禁带宽度材料的非故意掺杂层(106),受主掺杂层(107),非故意掺杂光吸收层(108),合金组分渐变层(109),较大禁带宽度材料的施主掺杂层(110)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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