[发明专利]曝光量测装置及其量测平台有效
| 申请号： | 201610089588.1 | 申请日： | 2016-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN105549338B | 公开（公告）日： | 2018-02-16 |
| 发明（设计）人： | 祖伟 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明的优选实施例提供了一种曝光量测装置及其量测平台，用于量测基板上曝光图案的临界尺寸及覆盖数据。所述曝光精度量测装置包括整体式上板，具有上表面，所述上表面用于承载基板；整体式下板，设置于所述整体式上板下方；以及多个高度调整机构，设置于所述整体式上板及所述整体式下板之间，用于支撑于所述整体式上板以及所述整体式下板之间，并可透过分别微调所述多个高度调整机构而使所述整体式上板的所述上表面平坦化。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 及其 平台 | ||
【主权项】：
一种曝光量测装置，用于量测基板上曝光图案的临界尺寸及覆盖数据，其特征在于，所述曝光量测装置包括：测量平台，其包括：整体式上板，具有上表面，所述上表面用于承载基板；所述整体式上板具有对应多个高度调整机构的多个上通孔；整体式下板，设置于所述整体式上板下方；所述整体式下板具有对应所述多个高度调整机构的多个下通孔；以及多个高度调整机构，设置于所述整体式上板及所述整体式下板之间，用于支撑于所述整体式上板以及所述整体式下板之间，并可透过分别微调所述多个高度调整机构而使所述整体式上板的所述上表面平坦化，每一高度调整机构包括调整螺丝，所述调整螺丝位于所述上通孔及对应的所述下通孔中，每一支撑调整机构包括与所述调整螺丝对应的固定螺母及调整螺母，所述固定螺母位于所述上通孔，所述调整螺母位于所述下通孔。
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