[发明专利]使用消色差双棱镜阵列的广角摄影机及其制造方法在审
申请号: | 201610086282.0 | 申请日: | 2016-02-15 |
公开(公告)号: | CN105872324A | 公开(公告)日: | 2016-08-17 |
发明(设计)人: | 陈伟平;邓兆展;万宗玮;尹淳义 | 申请(专利权)人: | 全视技术有限公司 |
主分类号: | H04N5/225 | 分类号: | H04N5/225;G02B5/04 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;刘铮 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种广角摄影机及其制造方法,其包含具有多个像素次阵列及设在基板第一侧上的光学组件阵列的传感器。该光学组件中的每个能够从视场在不同的像素次阵列上形成影像。该广角摄影机在该基板的第二侧上还包含消色差双棱镜阵列,其中该消色差双棱镜中的每个经排列对齐以使用不同的光学组件提供视角。该传感器于具有小型化规格的同时可捕获广角视场。 | ||
搜索关键词: | 使用 色差 棱镜 阵列 广角 摄影机 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种广角摄影机,包括:传感器,具有多个像素次阵列;光学组件阵列,设在基板的第一侧上,所述光学组件中的每个能够在不同的像素次阵列上形成视场的影像;以及消色差双棱镜阵列,设在所述基板的第二侧上,所述消色差双棱镜中的每个经排列对齐以使用不同的光学组件提供视角,使得所述传感器能够捕获广角视场并且具有小型化规格。
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