[发明专利]防止光刻胶层脱落的方法在审
| 申请号： | 201610041405.9 | 申请日： | 2016-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN105676594A | 公开（公告）日： | 2016-06-15 |
| 发明（设计）人： | 徐涛;王卉;陈宏;曹子贵 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 吴敏 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种防止光刻胶层发生脱落的方法，包括：提供衬底；在所述衬底表面形成待刻蚀层；对所述待刻蚀层进行表面处理，提高所述待刻蚀层的表面亲水性；在所述进行表面处理后的待刻蚀层表面形成光刻胶层。所述方法可以提高光刻胶层与待刻蚀层之间的粘附性，防止光刻胶层脱落。 | ||
| 搜索关键词： | 防止 光刻 脱落 方法 | ||
【主权项】：
一种防止光刻胶层发生脱落的方法，其特征在于，包括：提供衬底；在所述衬底表面形成待刻蚀层；对所述待刻蚀层进行表面处理，提高所述待刻蚀层的表面亲水性；在所述进行表面处理后的待刻蚀层表面形成光刻胶层。
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