[发明专利]微纳机电晶圆的圆片级封装方法及结构在审

专利信息
申请号: 201610040115.2 申请日: 2016-01-21
公开(公告)号: CN106986300A 公开(公告)日: 2017-07-28
发明(设计)人: 顾杰斌;刘冰杰;李昕欣 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;湖州中微科技有限公司
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00;B81B7/00
代理公司: 上海光华专利事务所31219 代理人: 余明伟
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种微纳机电晶圆的圆片级封装方法及结构,该结构包括盖板,包括一硅片;硅片正面制作有保护MEMS晶圆正面微机械部件的凹槽,硅片中制作有硅通孔;硅通孔的表面形成有绝缘层;MEMS晶圆,其正面的电极上制造有金属焊盘;MEMS晶圆的正面与盖板的正面键合;所述金属焊盘与所述硅通孔的位置相对应,且所述金属焊盘至少覆盖所述硅通孔的一部分;硅通孔中具有利用液态金属微孔填充技术填充的液态金属;液态金属与金属焊盘键合;MEMS晶圆电极至盖板背面电互连。本发明采用液态金属微孔填充技术对MEMS晶圆进行圆片级封装,大大缩短了TSV的填充时间和制造成本,节省了传统的金属引线键合工艺;在MEMS晶圆电极上预设了金属焊盘保证了封装后的电性连接成功率。
搜索关键词: 机电 圆片级 封装 方法 结构
【主权项】:
一种微纳机电晶圆的圆片级封装方法,其特征在于,所述微纳机电晶圆的圆片级封装方法包括:在一硅片的正面制作保护MEMS晶圆正面微机械部件的凹槽,在所述硅片中制作贯通硅片的正面和背面的硅通孔,在所述硅通孔侧壁形成绝缘层,得到盖板;在所述MEMS晶圆正面的电极上制作金属焊盘;将所述盖板的正面和所述MEMS晶圆的正面键合,其中,所述金属焊盘与所述硅通孔的位置相对应,且所述金属焊盘至少覆盖所述硅通孔的一部分;利用液态金属微孔填充技术对所述硅通孔进行填充,使填充的液态金属与所述金属焊盘键合,实现从所述MEMS晶圆电极至盖板背面的电互连。
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