[发明专利]一种磁控溅射法制备涂层导体Y1-XRExBCO超导层的方法在审
| 申请号： | 201610037521.3 | 申请日： | 2016-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN105525267A | 公开（公告）日： | 2016-04-27 |
| 发明（设计）人： | 何茂赟;刘胜利;王海云 | 申请（专利权）人： | 南京邮电大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/08;H01B12/06 |
| 代理公司： | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人： | 胡玲 |
| 地址： | 210009 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种涂层导体Y1-xRExBCO超导层的生长方法，具体涉及一种利用磁控溅射法在铝酸镧(LAO)基片上制备Y1-xRExBCO超导层的方法，有效克服YBCO超导层的厚度效应，提高超导载流能力。先用Sm或者Gd部分代替Y制备Y1-xRExBCO磁控溅射靶材，然后再将反应室抽真空至真空度小于等于5×10-4Pa，将LAO基片加热至600～700℃，20～30分钟后充入氩气和氧气至腔体气压稳定在30～60Pa，氧气氩气比例为1:2～1:3，以Y1-xRExBCO为靶材，开始溅射。溅射结束后，降温至400～450℃并充入氧气至气压维持在700～750mbar，进行40～80分钟退火处理。镀膜结束，将温度降至室温，得到LAO基带上生长的Y1-xRExBCO超导层。利用该方法能生产出Y1-xRExBCO超导层的厚度达到3μm的涂层导体。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 法制 涂层 导体 sub re bco 超导 方法 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射法制备涂层导体Y1‑xRExBCO超导层的方法，其特征在于，方法的步骤如下：步骤1：氧化钇、氧化钐、氧化钡和氧化铜或氧化钇、氧化钆、氧化钡和氧化铜四种金属氧化物粉末按照金属阳离子摩尔比：Y:RE:Ba:Cu＝1‑x:x:2:3的比例混合在一起研磨；步骤2：对粉末进行压缩成型；步骤3：压制好的块状样品放入炉中,以5℃/min的速率升温到850～900℃，并保持此温度24小时,然后以5℃/min的速率升到1050～1100℃保持1小时,然后再以2℃/min的速度降温到950℃，然后自然降温得到块状Y1‑XREXBCO靶材；步骤4：对铝酸镧(LAO)基片进行清洁处理；步骤5：对磁控溅射腔体抽真空至真空度小于等于5×10‑4Pa，将LAO基片加热至600℃～700℃，20～30分钟后充入氩气和氧气至腔体气压稳定在30～60Pa，以Y1‑XREXBCO为靶材，开始溅射4～12小时以上；步骤6：溅射结束后，降温至400～450℃并充入氧气，进行40～80分钟退火处理。镀膜结束，将温度降至室温，得到LAO基片上生长的Y1‑XREXBCO超导层。
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