[发明专利]增亮阻隔膜及具有该增亮阻隔膜的量子点膜、背光模组在审
申请号: | 201610032614.7 | 申请日: | 2016-01-16 |
公开(公告)号: | CN105652348A | 公开(公告)日: | 2016-06-08 |
发明(设计)人: | 胡文玮 | 申请(专利权)人: | 汕头万顺包装材料股份有限公司;汕头万顺包装材料股份有限公司光电薄膜分公司 |
主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10;G02F1/1335;G02F1/13357 |
代理公司: | 广州市深研专利事务所 44229 | 代理人: | 张喜安 |
地址: | 515078 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种增亮阻隔膜及具有该增亮阻隔膜的量子点膜、背光模组,增亮阻隔膜包括基材层,依次层设在基材层顶面上的无机镀层、聚合物层,以及设置在基材层底面的增亮层,增亮层呈连续式半圆球状分布。本发明所述的增亮阻隔膜层结构简单,增亮效果好,其应用到背光模组中,背光模组中可无需棱镜膜聚光增亮。 | ||
搜索关键词: | 阻隔 具有 量子 背光 模组 | ||
【主权项】:
一种增亮阻隔膜(33),具有基材层(331),其特征在于:增亮阻隔膜(33)包括依次层设在基材层(331)顶面上的无机镀层(332)、聚合物层(333),以及设置在基材层(331)底面的增亮层(334),增亮层(334)呈连续式半圆球结构分布;所述无机镀层(332)采用SiNx层、SiOy层交互堆叠的复合式无机层,x取值1至4/3之间,y取值1.8至2之间,其中,SiOy层位于SiNx层的上侧与聚合物层(333)连接,SiNx层与基材层(331)连接。
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