[发明专利]增亮阻隔膜及具有该增亮阻隔膜的量子点膜、背光模组在审
| 申请号： | 201610032611.3 | 申请日： | 2016-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN105572970A | 公开（公告）日： | 2016-05-11 |
| 发明（设计）人： | 胡文玮 | 申请（专利权）人： | 汕头万顺包装材料股份有限公司;汕头万顺包装材料股份有限公司光电薄膜分公司 |
| 主分类号： | G02F1/13357 | 分类号： | G02F1/13357;G02B1/14 |
| 代理公司： | 广州市深研专利事务所 44229 | 代理人： | 张喜安 |
| 地址： | 515078 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种增亮阻隔膜及具有该增亮阻隔膜的量子点膜、背光模组，增亮阻隔膜包括基材层，依次层设在基材层顶面上的无机镀层、聚合物层，以及设置在基材层底面的增亮层，增亮层呈连续式三角棱柱结构分布。本发明所述的增亮阻隔膜层结构简单，增亮效果好，其应用到背光模组中，背光模组中可无需棱镜膜聚光增亮。 | ||
| 搜索关键词： | 阻隔 具有 量子 背光 模组 | ||
【主权项】：
一种增亮阻隔膜(33)，具有基材层(331)，其特征在于：增亮阻隔膜(33)包括依次层设在基材层(331)顶面上的无机镀层(332)、聚合物层(333)，以及设置在基材层(331)底面的增亮层(334)，所述无机镀层(332)采用SiNx层、SiOy层交互堆叠的复合式无机层，x取值1至4/3之间，y取值1.8至2之间，增亮层(334)呈连续式三角棱柱结构分布。
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