[发明专利]对准标记及掩膜版在审

专利信息
申请号: 201610012639.0 申请日: 2016-01-09
公开(公告)号: CN105467747A 公开(公告)日: 2016-04-06
发明(设计)人: 李冲;丰亚洁;何艳;吕本顺;郭霞 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: G03F1/42 分类号: G03F1/42
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 刘萍
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种对准标记和掩膜版,其中对准标记包括基准标记单元和对准标记单元,基准标记单元包括角度基准标记单元、纵向基准标记单元和横向基准标记单元,该对准标记单元包括角度对准标记单元、纵向对准标记单元和横向对准标记单元,其中,该角度基准标记单元为十字形状,该角度对准标记单元包括4个角度对准标记元素,该4个角度对准标记元素分别与角度基准标记的4个直角接近配合,用以在旋转角度参量上精确对准。本发明适用于微电子流程中任意图形的套刻工艺中,可以将套刻的掩膜版与待加工的样品精确对准,具有广泛的实用意义。
搜索关键词: 对准 标记 掩膜版
【主权项】:
一种对准标记,包括基准标记单元和对准标记单元,其特征在于,所述基准标记单元包括角度基准标记单元、纵向基准标记单元和横向基准标记单元,所述对准标记单元包括角度对准标记单元、纵向对准标记单元和横向对准标记单元,其中,所述角度基准标记单元为十字形状,所述角度对准标记单元包括4个角度对准标记元素,所述4个角度对准标记元素分别与所述角度基准标记的4个直角配合。
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