[发明专利]一种涂覆装置及其涂覆方法和取向膜制备系统在审
| 申请号： | 201610006382.8 | 申请日： | 2016-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN105669041A | 公开（公告）日： | 2016-06-15 |
| 发明（设计）人： | 王成祥;王佳琦;姜根 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C03C17/00 | 分类号： | C03C17/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 罗瑞芝;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种涂覆装置及其涂覆方法和取向膜制备系统。该涂覆装置用于在基板上涂覆形成取向膜的材料，包括：基台、版酮和设置在基台一侧的第一转印辊，基台用于承载待涂覆基板；版酮用于将形成取向膜的材料涂覆到待涂覆基板上；第一转印辊用于将形成取向膜的材料转印到版酮上，还包括第二转印辊，第二转印辊设置在基台的与第一转印辊所在侧相对的一侧，用于将形成取向膜的材料转印到版酮上。该涂覆装置通过在基台的与第一转印辊所在侧相对的一侧设置第二转印辊，使该涂覆装置能实现双向转印，从而节省了传统的涂覆方法中版酮空载返回的时间，提高了生产稼动率，进而提高了产能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 装置 及其 方法 取向 制备 系统 | ||
【主权项】：
一种涂覆装置，用于在基板上涂覆形成取向膜的材料，包括：基台、版酮和设置在所述基台一侧的第一转印辊，所述基台用于承载待涂覆基板；所述版酮用于将形成取向膜的材料涂覆到所述待涂覆基板上；所述第一转印辊用于将形成取向膜的材料转印到所述版酮上，其特征在于，还包括第二转印辊，所述第二转印辊设置在所述基台的与所述第一转印辊所在侧相对的一侧，用于将形成取向膜的材料转印到所述版酮上。
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