[发明专利]具有原子层沉积涂层的部件及其制备方法有效
申请号: | 201580073226.7 | 申请日: | 2015-11-13 |
公开(公告)号: | CN107109644B | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | E·卡尔;K·基利恩 | 申请(专利权)人: | 安捷伦科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;B01D15/22;B01D53/04 |
代理公司: | 北京坤瑞律师事务所 11494 | 代理人: | 封新琴 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供了液相色谱和气相色谱部件及其制备方法,所述液相色谱和气相色谱部件在其内表面上具有保形保护涂层。保形保护涂层通过原子层沉积(ALD)方法形成。本申请的部件和方法用于提供液相色谱和气相色谱部件的保护涂层,液相色谱和气相色谱部件能与生物分析分离和敏感性微量分析相容。 | ||
搜索关键词: | 具有 原子 沉积 涂层 部件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的