[发明专利]具有直接出口环状等离子体源的等离子体处理系统

摘要

等离子体处理系统包括处理腔室及等离子体源，该等离子体源在等离子体腔中产生等离子体。该等离子体腔围绕环轴是实质对称的。该等离子体源在该等离子体腔的第一轴向侧上限定多个出口孔。由该等离子体所产生的等离子体产物在轴向方向上通过该多个出口孔从该等离子体腔朝该处理腔室传递。一种等离子体处理的方法，包括以下步骤：在实质环状的等离子体腔内产生等离子体以形成等离子体产物，该实质环状的等离子体腔限定环轴，及通过多个出口开口向处理腔室将等离子体产物直接分布进处理腔室中，该多个出口开口实质在方位上分布于该等离子体腔的第一轴向侧周围。

主权项

一种等离子体处理系统，包括：处理腔室；及等离子体源，所述等离子体源在等离子体腔中产生等离子体，所述等离子体腔围绕环轴是实质径向对称的，所述等离子体源在所述等离子体腔的第一轴向侧上限定多个出口孔，其中由所述等离子体所产生的等离子体产物在轴向方向上通过所述多个出口孔从所述等离子体腔朝所述处理腔室传递。