[发明专利]光刻设备的反射镜和光刻设备有效
| 申请号： | 201580066103.0 | 申请日： | 2015-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN107003620B | 公开（公告）日： | 2019-09-10 |
| 发明（设计）人： | M.施瓦布;R.芬肯;B.戈珀特 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本文公开了一种光刻系统(100)的反射镜(204)，该反射镜包含具有表面(226)的反射镜体(224)。该表面包括光学有效区域(220)和光学非有效区域(222)，光学非有效区域(222)至少部分位于光学有效区域(220)内。反射镜(204)还具有减小反射镜(204)的像差的装置(218)，所述装置布置在光学非有效区域(222)中。为了减小像差，装置(218)具有机械稳定装置(232)。 | ||
| 搜索关键词： | 反射镜 非有效区域 光学有效区域 光刻设备 减小 像差 机械稳定装置 反射镜体 光刻系统 装置布置 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备(100)的反射镜(204)，包括：反射镜体(224)，所述反射镜体(224)具有表面(226)，所述表面(226)包括光学有效区域(220)和光学非有效区域(222)，其中所述光学非有效区域(222)至少部分位于所述光学有效区域(220)内，以及装置(218)，所述装置(218)减小布置在所述光学非有效区域(222)中的反射镜(204)的光学像差，其中所述减小光学像差的装置(218)包括机械稳定装置(232)。
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