[发明专利]处理腔室有效
申请号: | 201580064762.0 | 申请日: | 2015-11-24 |
公开(公告)号: | CN107109645B | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 穆罕默德·图格鲁利·萨米尔 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458;C23C16/48;C23C16/50;H01L21/67;H01L21/687 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本公开内容的实施方式提供处理腔室,处理腔室具有顶部、底部、侧壁、气体分配器、基板支撑件、泵送口及能源,顶部、底部及侧壁耦接在一起以界定围封空间,气体分配器围绕侧壁,基板支撑件安置在围封空间中,基板支撑件具有中心开口及围绕中心开口分布的多个基板位置,泵送口位于基板支撑件下方,能源耦接至顶部或底部。能源可为辐射源、热源、紫外光源或等离子体源。基板支撑件可使用磁性转子及空气轴承而旋转。气体分配器可具有围绕气体分配器的圆周分布的多个通路。 | ||
搜索关键词: | 处理 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的