[发明专利]处理腔室有效

专利信息
申请号: 201580064762.0 申请日: 2015-11-24
公开(公告)号: CN107109645B 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 穆罕默德·图格鲁利·萨米尔 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/458;C23C16/48;C23C16/50;H01L21/67;H01L21/687
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;赵静
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开内容的实施方式提供处理腔室,处理腔室具有顶部、底部、侧壁、气体分配器、基板支撑件、泵送口及能源,顶部、底部及侧壁耦接在一起以界定围封空间,气体分配器围绕侧壁,基板支撑件安置在围封空间中,基板支撑件具有中心开口及围绕中心开口分布的多个基板位置,泵送口位于基板支撑件下方,能源耦接至顶部或底部。能源可为辐射源、热源、紫外光源或等离子体源。基板支撑件可使用磁性转子及空气轴承而旋转。气体分配器可具有围绕气体分配器的圆周分布的多个通路。
搜索关键词: 处理
【主权项】:
暂无信息
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