[发明专利]分子筛SSZ-101有效

专利信息
申请号: 201580055466.4 申请日: 2015-03-12
公开(公告)号: CN106794999B 公开(公告)日: 2018-09-04
发明(设计)人: T·M·达维斯;J·史密德特;D·谢 申请(专利权)人: 雪佛龙美国公司
主分类号: C01B39/46 分类号: C01B39/46;C01B39/48
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 孙爱
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了一种称为SSZ‑101的新型结晶分子筛。SSZ‑101使用N‑环己基甲基‑N‑乙基哌啶阳离子作为结构导向剂合成。
搜索关键词: 分子筛 ssz 101
【主权项】:
1.一种分子筛,其具有(1)硅氧化物与(2)铝氧化物的至少为5的摩尔比和其合成原样形式具有如下表所示的X射线衍射图:2‑θd‑间距,nm相对强度峰扩展P/N6.54±0.201.350WShL7.50±0.201.177SVBH9.77±0.200.904WShL11.56±0.200.765WShL12.47±0.200.709WShH12.95±0.200.683WShH15.00±0.200.590WBL15.90±0.200.557WShL17.36±0.200.510WBL17.76±0.200.499MShH19.89±0.200.446MBH21.68±0.200.410VSVBH22.50±0.200.395WShL23.24±0.200.382WShL26.06±0.200.342MShH28.18±0.200.316VSVBH.
其中所提供的粉末XRD图案基于相对强度标度,其中X射线图案中的最强线被指定为值100:W=弱,即>0至≤20;M=中,即>20至≤40;S=强,即>40至≤60;VS=非常强,即>60至≤100;峰扩展的特征在于XRD峰的半高宽(FWHM),其中峰值被分类为:Sh=锐度,即≤2*最小FWHM;B=宽,即>2*最小FWHM至≤4*最小FWHM;VB=非常宽,即>4*最小FWHM;和P/N是峰值对噪声比,其计算为P/N=(峰值高度‑背景)/√峰值高度,其中L=低,即≤10;H=高,即>10。
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