[发明专利]线路板的制造方法及用该制造方法制造的线路板有效
申请号: | 201580047825.1 | 申请日: | 2015-09-14 |
公开(公告)号: | CN106661734B | 公开(公告)日: | 2022-02-25 |
发明(设计)人: | 山本久光;川瀬智弘;竹内雅治 | 申请(专利权)人: | 上村工业株式会社 |
主分类号: | C23C18/40 | 分类号: | C23C18/40;H05K3/10;H05K3/18;H05K3/40 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 吕琳;朴秀玉 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开了一种线路板的制造方法。在将形成有导通孔和沟道二者中至少一方的被处理基板浸渍在以下化学镀液中的状态下,对被处理基板进行化学镀,由此将金属埋入导通孔和沟道二者中至少一方内。该线路板的制造方法至少包括以下工序:将化学镀液供向被处理基板的下方的工序、让含氧气体往已供到被处理基板的下方的化学镀液内扩散的工序、以及让镀液从被处理基板的上方溢出来的工序。 | ||
搜索关键词: | 线路板 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种线路板的制造方法,在将形成有导通孔和沟道二者中至少一方的被处理基板浸渍在以下化学镀液中的状态下,对被处理基板进行化学镀,由此将金属埋入导通孔和沟道二者中至少一方内,该线路板的制造方法至少包括以下工序:将化学镀液供向被处理基板的下方的工序、让含氧气体往已供到被处理基板的下方的化学镀液内扩散的工序、以及让镀液从被处理基板的上方溢出来的工序,化学镀液:至少含有水溶性金属盐、还原剂和络合剂,并且含有整平剂,该整平剂由用以下通式(I)到(V)中之任一个通式表示的至少一种硫系有机化合物构成,R1-(S)n-R2 (I)R1-L1-(S)n-R2 (II)R1-L1-(S)n-L2-R2 (III)R1-(S)n-L3 (IV)R1-L1-(S)n-L3 (V)在通式(I)到(V)中,n表示1以上的整数;R1、R2表示脂族环状基或芳香族环状基,其含有任意个数的碳原子、氧原子、磷原子、硫原子、氮原子,且所述碳原子、氧原子、磷原子、硫原子、氮原子互相独立,R1、R2或者表示任意一种以上的取代基有一个以上与该环状基键合而形成的环状基;L1、L2表示由彼此独立的直链或支链烷基、烷基氨基、亚烷基、烷氧基组成的组中的任一种基团;L3表示烷基、亚烷基、氨基、烷基氨基、亚烷基氨基、羟基、烷基羟基、亚烷基羟基、羧基、烷基羧基、亚烷基羧基、烷基氨基羧基、亚烷基氨基羧基、硝基、烷基硝基、腈基、烷基腈基、酰胺基、烷基酰胺基、羰基、烷基羰基、磺酸基、烷基磺酸基、膦酸基、烷基膦酸基、硫烷基、亚磺酰基、硫代羰基组成的基团组中的任一种基团。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
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