[发明专利]钯镀液和使用该钯镀液得到的钯覆膜有效

专利信息
申请号: 201580044246.1 申请日: 2015-08-26
公开(公告)号: CN106661735B 公开(公告)日: 2019-12-10
发明(设计)人: 清原欢三;柴田和也;大须贺隆太;中川裕介;大久保祐弥 申请(专利权)人: 日本高纯度化学株式会社
主分类号: C23C18/44 分类号: C23C18/44;C23C18/52;C25D3/50
代理公司: 11127 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 庞东成;褚瑶杨
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的课题在于提供一种钯镀液,其中,减少在钯覆膜上产生的针孔等不良部的产生,即使将形成在钯覆膜上的金镀膜薄膜化,也能够得到与以往的金镀膜同等的耐热性能,利用钯镀液以及钯覆膜解决了课题,所述钯镀液含有作为钯源的可溶性钯盐和特定吡啶鎓化合物,所述特定吡啶鎓化合物在1位氮原子上键合有烷基,2位至6位的1个至5个由选自由烷基、芳基、羧基、烷氧基羰基、磺基、烷氧基磺酰基、氨基、烷基氨基、二烷基氨基和氰基组成的组中的1种或2种以上的特定取代基取代,所述钯覆膜是通过使用该钯镀液,在镍、镍合金、铜或铜合金的覆膜上进行钯镀覆而得到的。
搜索关键词: 钯镀液 使用 得到 钯覆膜
【主权项】:
1.一种无电解镀钯镀液,其特征在于,其含有作为钯源的可溶性钯盐以及特定吡啶鎓化合物,所述特定吡啶鎓化合物在1位氮原子上键合有烷基,2位至6位的1个至5个由选自由羧基、烷氧基羰基、磺基、烷氧基磺酰基、氨基、烷基氨基、二烷基氨基和氰基组成的组中的1种或2种以上的特定取代基取代。/n
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