[发明专利]受激发射损耗显微镜装置有效
申请号: | 201580017560.0 | 申请日: | 2015-03-19 |
公开(公告)号: | CN106133580B | 公开(公告)日: | 2019-03-12 |
发明(设计)人: | 泷口优 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | G02B21/06 | 分类号: | G02B21/06;G01N21/64 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | STED显微镜装置(1A)包括输出STED光(LS1)的STED光源(11)、输出激励光(LE1)的激励光源(12)、呈现用于通过相位调制将STED光(LS1)成形为圆环状的相位图案的相位调制型的SLM(13)、用于向观察对象区域照射激励光(LE2)和相位调制后的STED光(LS2)的光学系统(15A)、对从观察对象区域产生的荧光(PL)进行检测的检测器(16)、以及控制相位图案的控制部(17a)。控制部(17a)为了控制相位调制后的STED光(LS2)的圆环的内径而设定相位图案。由此,实现了在分辨率和所需时间方面能够提高使用者的便利性的STED显微镜装置。 | ||
搜索关键词: | 受激发射 损耗 显微镜 装置 | ||
【主权项】:
1.一种受激发射损耗显微镜装置,其特征在于,包括:输出受激发射损耗光的受激发射损耗光源;输出激励光的激励光源;呈现用于通过相位调制将所述受激发射损耗光成形为圆环状的第一相位图案的相位调制型的第一空间光调制器;呈现用于通过相位调制将所述激励光成形为圆形的第二相位图案的第二空间光调制器;用于向观察对象区域照射所述激励光和相位调制后的所述受激发射损耗光的光学系统;对从所述观察对象区域产生的荧光进行检测的二维检测器;使所述荧光在所述二维检测器的受光面上进行扫描的光扫描仪;和控制所述第一相位图案以及所述第二相位图案的控制部,所述控制部为了控制相位调制后的所述受激发射损耗光的圆环的内径而设定所述第一相位图案,分割所述受激发射损耗光并使用于向多个区域照射的图案与所述第一相位图案重叠,并且分割所述激励光并使用于向所述多个区域照射的图案与所述第二相位图案重叠,所述二维检测器不与所述光扫描仪光学结合,所述激励光和所述受激发射损耗光的照射时间间隔根据扫描方向上的所述受光面的像素的宽度和所述光扫描仪的扫描速度,以各像素不对所述荧光进行多次受光的方式设定。
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