[发明专利]等离子体处理方法和等离子体处理装置

摘要

一技术方案的等离子体处理方法包括如下工序：准备等离子体处理装置的工序，该等离子体处理装置具有腔室、下部电极、上部电极、将所述下部电极的周缘包围起来的聚焦环、以及配置于所述上部电极的上部且比所述下部电极的周缘靠外侧的位置的环状线圈；将基板以其周缘被所述聚焦环包围的方式载置在所述下部电极上的工序；向所述腔室内导入处理气体的工序；向所述上部电极与所述下部电极之间施加高频电力来产生所述处理气体的等离子体的工序；以及向所述环状线圈供给电流、使其产生磁场、使所述基板的上部和所述聚焦环的上部的等离子体鞘层的界面平坦化的工序。

主权项

1.一种等离子体处理方法，其中，/n该等离子体处理方法包括如下工序：/n准备等离子体处理装置的工序，该等离子体处理装置具有：腔室；下部电极，其配置在所述腔室内；上部电极，其配置在所述腔室内，与所述下部电极相对；聚焦环，其配置在所述腔室内，将所述下部电极的周缘包围起来；以及电磁体，其配置于所述上部电极的上部上，并与载置在所述下部电极上的基板同心状配置，整体呈环状，具有芯构件以及多个环状线圈，其中，所述芯构件具有一体形成有基部、柱状部以及多个圆筒部的构造，所述基部具有大致圆板形状，所述柱状部和所述多个圆筒部配置为从所述基部的下表面向下方突出，在所述柱状部与距离所述柱状部最近的圆筒部之间、以及各相邻圆筒部之间划分出用于收容所述多个环状线圈的槽，各环状线圈呈环状，并且各环状线圈之间呈同心状配置，各环状线圈均与所述上部电极和所述下部电极同心状配置，所述多个环状线圈包括位于所述下部电极的外周的外侧的1个环状线圈和位于所述下部电极的外周的内侧的其它环状线圈；/n将基板以其周缘被所述聚焦环包围的方式载置在所述下部电极上的工序；/n向所述腔室内导入处理气体的工序；/n向所述上部电极与所述下部电极之间施加高频电力来产生所述处理气体的等离子体的工序；以及/n向所述1个环状线圈供给电流、使该环状线圈产生磁场、使所述基板的上部和所述聚焦环的上部的等离子体鞘层的界面平坦化的工序。/n