[发明专利]改进的立体光刻机有效

专利信息
申请号: 201580010233.2 申请日: 2015-02-19
公开(公告)号: CN106061715B 公开(公告)日: 2018-06-19
发明(设计)人: 埃托雷·毛里齐奥·科斯塔贝贝尔 申请(专利权)人: 埃托雷·毛里齐奥·科斯塔贝贝尔
主分类号: B29C67/00 分类号: B29C67/00;G02B26/08;G02B26/10
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王艳江;董敏
地址: 意大利*** 国省代码: 意大利;IT
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摘要: 发明为一种立体光刻机,其包括:容器,该容器容纳基础材料,基础材料限定了为基础材料定界的外表面;发光单元,该发光单元适于发射光束;光反射装置,该光反射装置适于使光束偏向属于外表面的入射区域;逻辑控制单元,该逻辑控制单元适于控制光反射装置以使得光束选择性地入射在属于入射区域的操作区域上;光学单元,该光学单元适于使光束聚焦在光束具有最小横截面的焦面上。光学单元设置在发光单元与光反射装置之间,发光单元和光学单元构造成使得光束与操作区域的交会区域的最大直径与最小横截面的直径之间的比率不超过1.15。本发明还涉及一种用于设计立体光刻机的方法。 1
搜索关键词: 发光单元 光学单元 光反射装置 基础材料 立体光刻 逻辑控制单元 最小横截面 入射区域 操作区域 发射光束 反射装置 光束聚焦 光束偏向 光束选择 控制光 与操作 定界 交会 入射 容纳 改进
【主权项】:
1.一种立体光刻机(1),包括:‑容器(2),所述容器(2)容纳液态的或糊状的基础材料(3),所述基础材料(3)限定了外表面(4),所述外表面(4)为所述基础材料定界;‑发光单元(5),所述发光单元(5)构造成发射光束(6);‑光反射装置(7),所述光反射装置(7)适于使所述光束(6)偏离并且适于被控制成使得所述光束(6)入射在属于所述外表面(4)的入射区域(8)的任意点上;‑逻辑控制单元(19),所述逻辑控制单元(19)配置成控制所述光反射装置(7)以使得所述光束(6)选择性地入射在属于所述入射区域(8)的操作区域(10)的任意点上;‑光学单元(11),所述光学单元(11)构造成使所述光束(6)聚焦在由所述光束(6)沿着由所述光反射装置(7)限定的不同方向具有最小横截面(15)的点限定的焦面(12)上,所述光学单元(11)布置在所述发光单元(5)与所述光反射装置(7)之间,其特征在于,所述光学单元(11)构造成使得所述焦面(12)是球面的,以及所述发光单元(5)和所述光学单元(11)构造成使得所述光束(6)与所述操作区域(10)之间的穿过整个所述操作区域(10)的交会区域的最大直径与所述最小横截面(15)的直径(wF)之间的比率不超过1.15。
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