[实用新型]一种单面腐蚀制绒设备有效
| 申请号： | 201520727288.2 | 申请日： | 2015-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN204927252U | 公开（公告）日： | 2015-12-30 |
| 发明（设计）人： | 李灿 | 申请（专利权）人： | 李灿 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 吴开磊 |
| 地址： | 215000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种单面腐蚀制绒设备，属于硅片制绒领域，包括制绒槽和传送装置，所述传送装置包括若干水平布置于所述制绒槽内的带液滚筒和驱动带液滚筒转动的驱动装置，所述带液滚筒垂直于制绒槽的前侧壁和后侧壁，所述制绒槽包括进料口和出料口，所述进料口和出料口处均设有液位调节装置。液位调节装置可将制绒槽内的制绒液刚好控制在硅片下表面处，使硅片下表面完全浸泡在制绒液中，从而达到单面制绒的效果。这种单面腐蚀制绒设备具有节约制绒液、制绒效率高的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单面 腐蚀 设备 | ||
【主权项】：
一种单面腐蚀制绒设备，其特征在于，包括制绒槽和传送装置，所述传送装置包括若干水平布置于所述制绒槽内的带液滚筒和驱动带液滚筒转动的驱动装置，所述带液滚筒垂直于制绒槽的前侧壁和后侧壁，所述制绒槽包括进料口和出料口，所述进料口和出料口处均设有液位调节装置。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
