[实用新型]一种具有防水照度计的浸润式光刻机

摘要

本实用新型涉及一种具有防水照度计的浸润式光刻机，属于半导体集成电路工艺技术领域，其包括从上往下依次设置的光源、掩膜板以及投射物镜，投射物镜的下方设有待曝光的硅片，还包括：用于提供浸润介质的浸润部件、用于采集硅片表面投射的光量的照度计以及处理单元，照度计放置在硅片的表面，照度计的表面涂覆有防水涂层；处理单元与照度计连接，用于接收照度计采集的光量值，并对其进行分析处理。本实用新型提供的具有防水照度计的浸润式光刻机，通过在照度计的表面设置防水涂层，使照度计可接触浸润介质，避免了传统照度计受到浸润液的干扰，从而提高了照度计检测光量的准确性。

主权项

一种具有防水照度计的浸润式光刻机，用于对硅片进曝光，其包括从上往下依次设置的光源、掩膜板以及投射物镜，所述投射物镜的下方设有待曝光的硅片，其特征在于，还包括：照度计，用于采集硅片表面投射的光量，放置在所述硅片的表面，所述照度计的表面涂覆有防水涂层；处理单元，与所述照度计连接，用于接收所述照度计采集的光量值，并对其进行分析处理；浸润部件，用于提供浸润介质，设于所述投射物镜下方的圆周方向上，所述浸润部件包括液体供应管道以及液体回收管道，所述液体供应管道以及液体回收管道分别设于所述投射物镜的两侧，其中，浸润介质从液体供应管道流出，并从液体回收管道回收，形成浸润介质的循环供给。