[实用新型]功率NPN型晶体管有效

专利信息
申请号: 201520177374.0 申请日: 2015-03-26
公开(公告)号: CN204538032U 公开(公告)日: 2015-08-05
发明(设计)人: 崔峰敏 申请(专利权)人: 傲迪特半导体(南京)有限公司
主分类号: H01L29/73 分类号: H01L29/73;H01L29/06
代理公司: 江苏致邦律师事务所 32230 代理人: 樊文红
地址: 210034 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 功率NPN型晶体管,在正方形的低掺杂N型硅的集电区上的正方形区域内,设有高掺杂P型硅的基区,基区上设有高掺杂N型硅的发射区,所述发射区由若干横向和竖向排列的指状小发射区组成,横向和竖向排列的指状小发射区沿晶圆片的对角线对称设置,基区和所述发射区间隔分布,呈叉指状;每个所述小发射区的上设有窄于小发射区的发射区接触孔,发射区接触孔通过发射极金属化电极条连接至发射极电极;在相邻两个所述小发射区之间基区上设有基区接触孔,基区接触孔由基极金属化电极条连接至基极电极;基极金属化电极条和发射极电极条之间设有绝缘槽。本实用新型的版图,采用横排和竖排叉指状的发射区分布,不仅开关速度快,分布限流效果好。
搜索关键词: 功率 npn 晶体管
【主权项】:
功率NPN型晶体管,在正方形的低掺杂N型硅的集电区上的正方形区域内,设有高掺杂P型硅的基区,基区上设有高掺杂N型硅的发射区,其特征是,所述发射区由若干横向和竖向排列的指状小发射区组成,所述横向和竖向排列的指状小发射区沿晶圆片的对角线对称设置,所述基区和所述发射区间隔分布,呈叉指状;每个所述小发射区的上设有窄于小发射区的发射区接触孔,发射区接触孔通过发射极金属化电极条连接至发射极电极;在相邻两个所述小发射区之间基区上设有基区接触孔,基区接触孔由基极金属化电极条连接至基极电极;基极金属化电极条和发射极电极条之间设有绝缘槽。
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