[实用新型]功率NPN型晶体管有效
申请号: | 201520177374.0 | 申请日: | 2015-03-26 |
公开(公告)号: | CN204538032U | 公开(公告)日: | 2015-08-05 |
发明(设计)人: | 崔峰敏 | 申请(专利权)人: | 傲迪特半导体(南京)有限公司 |
主分类号: | H01L29/73 | 分类号: | H01L29/73;H01L29/06 |
代理公司: | 江苏致邦律师事务所 32230 | 代理人: | 樊文红 |
地址: | 210034 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 功率NPN型晶体管,在正方形的低掺杂N型硅的集电区上的正方形区域内,设有高掺杂P型硅的基区,基区上设有高掺杂N型硅的发射区,所述发射区由若干横向和竖向排列的指状小发射区组成,横向和竖向排列的指状小发射区沿晶圆片的对角线对称设置,基区和所述发射区间隔分布,呈叉指状;每个所述小发射区的上设有窄于小发射区的发射区接触孔,发射区接触孔通过发射极金属化电极条连接至发射极电极;在相邻两个所述小发射区之间基区上设有基区接触孔,基区接触孔由基极金属化电极条连接至基极电极;基极金属化电极条和发射极电极条之间设有绝缘槽。本实用新型的版图,采用横排和竖排叉指状的发射区分布,不仅开关速度快,分布限流效果好。 | ||
搜索关键词: | 功率 npn 晶体管 | ||
【主权项】:
功率NPN型晶体管,在正方形的低掺杂N型硅的集电区上的正方形区域内,设有高掺杂P型硅的基区,基区上设有高掺杂N型硅的发射区,其特征是,所述发射区由若干横向和竖向排列的指状小发射区组成,所述横向和竖向排列的指状小发射区沿晶圆片的对角线对称设置,所述基区和所述发射区间隔分布,呈叉指状;每个所述小发射区的上设有窄于小发射区的发射区接触孔,发射区接触孔通过发射极金属化电极条连接至发射极电极;在相邻两个所述小发射区之间基区上设有基区接触孔,基区接触孔由基极金属化电极条连接至基极电极;基极金属化电极条和发射极电极条之间设有绝缘槽。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于傲迪特半导体(南京)有限公司,未经傲迪特半导体(南京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201520177374.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:太阳能电池背膜组装台
- 下一篇:薄膜晶体管基板
- 同类专利
- 专利分类