[实用新型]柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机有效
申请号: | 201520007002.3 | 申请日: | 2015-01-07 |
公开(公告)号: | CN204385288U | 公开(公告)日: | 2015-06-10 |
发明(设计)人: | 谈琦 | 申请(专利权)人: | 四川亚力超膜科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/35 |
代理公司: | 成都宏顺专利代理事务所(普通合伙) 51227 | 代理人: | 周永宏 |
地址: | 610106 四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机,包括真空系统、卷绕系统和溅射系统,真空系统包括真空室和真空泵;真空系统用于将真空室内抽真空至磁控溅射需要的真空环境;卷绕系统用于实现基材的放卷和收卷,卷绕系统包括放卷机构、镀膜鼓和收卷机构;由放卷机构释放的基材经镀膜鼓,再由收卷机构进行收卷;所述的镀膜鼓附近设有压辊,所述的压辊位于镀膜鼓的基材伸入方向上;溅射系统用于对经过镀膜鼓的基材进行镀膜得到镀膜产品。本实用新型能够在基材上一次完成多层膜系的镀膜,且不易使塑料基材起皱,同时将圆形真空室固定,柔性基材卷绕系统和磁控溅射装置可以分别从圆形真空室的两侧伸入或拖出到圆形真空室,使设备操作维护方便。 | ||
搜索关键词: | 柔性 基材 磁控溅射 卷绕 镀膜 | ||
【主权项】:
柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机,其特征在于,包括真空系统、卷绕系统(2)和溅射系统(3),真空系统包括真空室(1)和真空泵;卷绕系统(2)和溅射系统(3)均设置在真空室(1)内;所述的真空系统用于将真空室(1)内抽真空至磁控溅射需要的真空环境;所述的卷绕系统(2)用于实现基材的放卷和收卷,卷绕系统(2)包括放卷机构(201)、镀膜鼓(207)和收卷机构(215);由放卷机构(201)释放的基材经镀膜鼓(207),再由收卷机构(215)进行收卷,位于镀膜鼓(207)的基材伸入方向上设有压辊(206),压辊(206)与镀膜鼓(207)之间设有供基材通行的缝隙;所述的溅射系统(3)用于对经过镀膜鼓(207)的基材进行镀膜得到镀膜产品。
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