[发明专利]一种钛表面固体渗硼用渗硼剂及渗硼工艺有效
| 申请号： | 201510362276.9 | 申请日： | 2015-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN104911535B | 公开（公告）日： | 2017-06-09 |
| 发明（设计）人： | 吕晓军;胡凌云;许真铭;曾小鹏;李劼;张红亮 | 申请（专利权）人： | 中南大学 |
| 主分类号： | C23C8/68 | 分类号： | C23C8/68 |
| 代理公司： | 长沙市融智专利事务所43114 | 代理人： | 袁靖 |
| 地址： | 410083 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种钛表面固体渗硼用渗硼剂及渗硼工艺，渗硼剂由5～93.9wt.％硼源、5～25wt.％低熔点化合物、1～10wt.％固氧剂、0.1～89wt.％稀释剂组成。渗硼处理时，先将配制好的渗硼剂球磨混合均匀，然后装入渗硼罐中，同时将钛金属工件埋入渗硼剂中，升温至750～1300℃，保温0.5～24h后，取出工件，以适当方式冷却，清理工件表面附着的渗硼剂。本发明所述的渗硼剂可提高硼向工件表面迁移的速率，同时防止钛基体被氧化而导致的渗硼速率降低，从而提高渗硼效率，易得到厚度大且均匀的渗层，而且渗硼过程安全、环保。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表面 固体 渗硼用渗硼剂 工艺 | ||
【主权项】：
一种钛表面固体渗硼用渗硼剂，其特征在于，渗硼剂由以下组分组成：60～93wt.％无定型硼、5～15wt.％低熔点化合物、1～6wt.％固氧剂、1～25wt.％稀释剂，其中，低熔点化合物包括B2O3、Na2B4O7、Na2B2O4、K2B4O7、K2CO3、Na2CO3中的一种或多种，固氧剂包括Al粉、Mg粉中的一种或两种，稀释剂包括Al2O3、MgO中的一种或两种。
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