[发明专利]铜锌锡硫溅射靶及其制备方法在审
申请号: | 201510277211.4 | 申请日: | 2015-05-27 |
公开(公告)号: | CN104846342A | 公开(公告)日: | 2015-08-19 |
发明(设计)人: | 庄大明;赵明;孙汝军;余新平;张宁;郭力;高泽栋;魏要伟;欧阳良琦 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/35;B22F3/16 |
代理公司: | 深圳市鼎言知识产权代理有限公司 44311 | 代理人: | 哈达 |
地址: | 100084 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种贫铜富锌的铜锌锡硫溅射靶,该铜锌锡硫溅射靶具有锌黄锡矿结构,含有Cu、Zn、Sn及S元素,该四种元素的原子比满足Cu/(Zn+Sn)<1且Zn/Sn>1。本发明还涉及一种铜锌锡硫溅射靶的制备方法,包括:1)机械合金化:将硫化亚铜粉末、硫化锌粉末和二硫化锡粉末按摩尔比为(0.5-1.3):(1-1.6):(0.4-1),且不含1:1:1比例,在液态介质中进行球磨混合,再经烘干获得混合粉末;以及2)将该混合粉末进行压制成型和烧结,得到具有贫铜富锌成分的铜锌锡硫溅射靶。 | ||
搜索关键词: | 铜锌锡硫 溅射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种铜锌锡硫溅射靶,其特征在于,该铜锌锡硫溅射靶具有锌黄锡矿结构,含有Cu、Zn、Sn及S元素,该四种元素的原子比满足Cu/(Zn+Sn)<1且 Zn/Sn>1。
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