[实用新型]一种用于调节硅片制绒槽内减薄量均匀性的系统有效
申请号: | 201420790611.6 | 申请日: | 2014-12-11 |
公开(公告)号: | CN204230280U | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
发明(设计)人: | 陈波;崔红星;张文锋;胡应全;林海峰 | 申请(专利权)人: | 东方日升新能源股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67;C30B33/10 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 315609 浙江省宁波市宁海*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 一种用于调节硅片制绒槽内减薄量均匀性的系统,包括制绒槽,制绒槽内设有至少三个反应道,反应道内由上往下依次设有位于制绒槽内药液液位下方的压轮与滚轮,硅片在滚轮和压轮之间移动并制绒;还包括储液槽,储液槽通过输液管将储液槽内的药液输送到制绒槽内,位于制绒槽内的输液管上设有若干喷孔,制绒槽通过溢流管以及回流管将制绒槽内的药液输送到储液槽内,储液槽内的药液通过热交换毛细管与一冰机形成热交换,位于制绒槽两端的反应道之间的其他每条反应道上各设有一喷淋装置。其有益效果:有利于降低制绒槽内中间的反应道的温度,从而使制绒槽内的温度均匀,使在制绒槽内进行制绒过程中的硅片减薄量均匀,颜色分布均匀,成品率高。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 调节 硅片 制绒槽内减薄量 均匀 系统 | ||
【主权项】:
一种用于调节硅片制绒槽内减薄量均匀性的系统,包括制绒槽,所述制绒槽内设有反应道,所述反应道内由上往下依次设有位于制绒槽内药液液位下方的压轮与滚轮,硅片在滚轮和压轮之间移动并进行制绒;还包括一储液槽,所述储液槽通过一输液管将储液槽内的药液输送到所述制绒槽内,位于所述制绒槽内的输液管上设有若干第一喷孔,所述制绒槽通过溢流管以及回流管将所述制绒槽内的药液输送到储液槽内,所述储液槽内的药液通过热交换毛细管与一冰机形成热交换,其特征在于:所述反应道至少有三个,位于制绒槽两端的反应道之间的其他每条反应道上各设有一喷淋装置。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的