[实用新型]4430nm带通红外滤光敏感元件有效

专利信息
申请号: 201420758415.0 申请日: 2014-12-07
公开(公告)号: CN204374474U 公开(公告)日: 2015-06-03
发明(设计)人: 吕晶;王继平;余初旺 申请(专利权)人: 杭州麦乐克电子科技有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20
代理公司: 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 代理人: 周豪靖
地址: 311188 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种4430nm带通红外滤光敏感元件,包括以蓝宝石为原材料的基板,以Ge、SiO为第一镀膜层和以Ge、SiO为第二镀膜层,且所述基板设于第一镀膜层与第二镀膜层之间。本实用新型所得到的一种4430nm带通红外滤光敏感元件,其中心波长4430±15 nm,其在医用红外气体检测分析过程中,可大大的提高信噪比,提高测试精准度,适合于大范围的推广和使用。该滤光敏感元件的峰值透过率Tp≥70%,带宽=30±10nm,400~11000 nm(除通带外),Tavg<0.1%。
搜索关键词: 4430 nm 通红 滤光 敏感 元件
【主权项】:
一种4430nm带通红外滤光敏感元件,包括以蓝宝石为原材料的基板(2),以Ge、SiO为第一镀膜层(1)和以Ge、SiO为第二镀膜层(3),且所述基板(2)设于第一镀膜层(1)与第二镀膜层(3)之间,其特征是所述第一镀膜层(1)由内向外依次排列包含有214nm厚度的Ge层、225nm厚度的SiO层、215nm厚度的Ge层、264nm厚度的SiO层、135nm厚度的Ge层、195nm厚度的SiO层、94nm厚度的Ge层、321nm厚度的SiO层、120nm厚度的Ge层、245nm厚度的SiO层、143nm厚度的Ge层、291nm厚度的SiO层、131nm厚度的Ge层、419nm厚度的SiO层、240nm厚度的Ge层、295nm厚度的SiO层、136nm厚度的Ge层、524nm厚度的SiO层、236nm厚度的Ge层、326nm厚度的SiO层、79nm厚度的Ge层、594nm厚度的SiO层、363nm厚度的Ge层、1116nm厚度的SiO层、274nm厚度的Ge层、1132nm厚度的SiO层、290nm厚度的Ge层、1115nm厚度的SiO层、388nm厚度的Ge层、571nm厚度的SiO层;所述的第二镀膜层(3)由内向外依次排列包含有346nm厚度的Ge层、627nm厚度的SiO层、271nm厚度的Ge层、627nm厚度的SiO层、271nm厚度的Ge层、1255nm厚度的SiO层、271nm厚度的Ge层、627nm厚度的SiO层、271nm厚度的Ge层、627nm厚度的SiO层、271nm厚度的Ge层、627nm厚度的SiO层、271nm厚度的Ge层、627nm厚度的SiO层、271nm厚度的Ge层、1255nm厚度的SiO层、271nm厚度的Ge层、627nm厚度的SiO层、255nm厚度的Ge层、120nm厚度的SiO层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州麦乐克电子科技有限公司;,未经杭州麦乐克电子科技有限公司;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420758415.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top