[实用新型]杂质去除装置有效
| 申请号： | 201420681338.3 | 申请日： | 2014-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN204281884U | 公开（公告）日： | 2015-04-22 |
| 发明（设计）人： | 内海裕二;船木明秀;高桥智;德田明 | 申请（专利权）人： | 日本电镀工程股份有限公司 |
| 主分类号： | C25D21/16 | 分类号： | C25D21/16;C25D21/06 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 高培培;车文 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种杂质去除装置，能够从含Au及氰的处理对象液高效且高纯度地精炼含Au和氰的化合物。本实用新型的杂质去除装置具有用于从含有Au及氰的处理对象液生成将含Au和氰的化合物浓缩的浓缩液的反渗透膜，其特征在于，反渗透膜具有：第一反渗透膜，分离生成将含Au和氰的化合物浓缩的第一浓缩液以及含Au及氰以外的杂质的含杂质液；以及第二反渗透膜，从该第一浓缩液分离生成将含Au和氰的化合物浓缩的第二浓缩液以及水。 | ||
| 搜索关键词： | 杂质 去除 装置 | ||
【主权项】：
一种杂质去除装置，具有用于从含有Au及氰的处理对象液生成将含Au和氰的化合物浓缩的浓缩液的反渗透膜，其特征在于，反渗透膜具有：第一反渗透膜，分离生成将含Au和氰的化合物浓缩的第一浓缩液以及含Au及氰以外的杂质的含杂质液；以及第二反渗透膜，从该第一浓缩液分离生成将含Au和氰的化合物浓缩的第二浓缩液以及水。
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