[实用新型]一种湿法刻蚀装置有效

专利信息
申请号: 201420593668.7 申请日: 2014-10-14
公开(公告)号: CN204138821U 公开(公告)日: 2015-02-04
发明(设计)人: 胡春周 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: C30B33/10 分类号: C30B33/10
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 李仪萍
地址: 100176 北京市大兴*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供一种湿法刻蚀装置,所述装置至少包括:腐蚀槽以及至少两个过滤器;所述腐蚀槽与每个过滤器通过第一、第二管道连接;所述第一、第二管道上分别对应设有第一、第二阀门;所述第一阀门与所述过滤器之间设有与所述第一管道相通的进液管;所述第二阀门与所述过滤器之间设有与所述第二管道相通的出液管。本实用新型的湿法刻蚀装置通过增加连接在腐蚀槽上的过滤器使得湿法清洗过程与清洗过滤器的过程互不影响,清洗过滤器时不会对腐蚀槽造成侵蚀,延长腐蚀槽的使用寿命;同时不用拆卸清洗装置即可将过滤器中的杂质清除,提高过滤器清洗效率,从而降低腐蚀槽内杂质含量。
搜索关键词: 一种 湿法 刻蚀 装置
【主权项】:
一种湿法刻蚀装置,其特征在于,所述装置至少包括:腐蚀槽以及至少两个过滤器;所述腐蚀槽与每个过滤器通过第一、第二管道连接;所述第一、第二管道上分别对应设有第一、第二阀门;所述第一阀门与所述过滤器之间设有与所述第一管道相通的进液管;所述第二阀门与所述过滤器之间设有与所述第二管道相通的出液管。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(北京)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420593668.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top