[实用新型]一种半导体场效应管有效
申请号: | 201420575835.5 | 申请日: | 2014-09-30 |
公开(公告)号: | CN204130547U | 公开(公告)日: | 2015-01-28 |
发明(设计)人: | 夏洪贵 | 申请(专利权)人: | 夏洪贵 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 402360 重庆市大*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种半导体场效应管,包括P型硅衬底,所述P型硅衬底底面设置有第一铝电极,所述第一铝电极上设置有B型衬底引线,所述P型硅衬底上表面两端设置有对称N型区,所述对称N型区上方分别设置有第二铝电极、第三铝电极,所述第二铝电极上设置有源极,所述第三铝电极上设置有漏极,所述第二铝电极与第三铝电极之间设置有SiO2绝缘层,所述SiO2绝缘层上设置有第四铝电极,所述第四铝电极上设置有栅极。本实用新型结构简单、温度特性好、噪音低、抗辐射性能力强。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 场效应 | ||
【主权项】:
一种半导体场效应管,其特征在于,包括P型硅衬底,所述P型硅衬底底面设置有第一铝电极,所述第一铝电极上设置有B型衬底引线,所述P型硅衬底上表面两端设置有对称N型区,所述对称N型区上方分别设置有第二铝电极、第三铝电极,所述第二铝电极上设置有源极,所述第三铝电极上设置有漏极,所述第二铝电极与第三铝电极之间设置有SiO2绝缘层,所述SiO2绝缘层上设置有第四铝电极,所述第四铝电极上设置有栅极。
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