[实用新型]碳化硅单晶生长炉的测温孔自清理装置有效

专利信息
申请号: 201420551466.6 申请日: 2014-09-24
公开(公告)号: CN204097596U 公开(公告)日: 2015-01-14
发明(设计)人: 张皓;徐永宽;程红娟;孟大磊 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十六研究所
主分类号: C30B23/00 分类号: C30B23/00;C30B29/36
代理公司: 天津中环专利商标代理有限公司 12105 代理人: 胡京生
地址: 300220*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 实用新型涉及一种碳化硅单晶生长炉的测温孔自清理装置,测温孔自清理装置采用高纯石墨材质、由不同直径的内有中心孔的、圆柱体组成,其总长度略大于生长坩埚底部至下法兰上表面距离,一端圆柱体外径与底层石墨保温层测温孔内径相同,另一端圆柱体外径与下法兰测温孔内径相同,在直径最大处对称、均匀设置数个倾斜通槽,装置顶端不与生长坩埚底部接触,底端伸入下法兰盘测温孔中。技术效果是有效杜绝了测温孔堵塞的问题,使得碳化硅单晶的生长始终处于有效地温度控制下,克服了测温不准、可重复性差的缺点,结构简单,通过与Ar气进气通道的结合,还改善了Ar气进气路径,使其正对生长室中心,具有很好的同心度。
搜索关键词: 碳化硅 生长 测温 清理 装置
【主权项】:
一种碳化硅单晶生长炉的测温孔自清理装置,测温孔自清理装置(3)采用高纯石墨材质、由不同直径的、内有中心孔(3‑1)的圆柱体组成,其特征在于:其总长度略大于生长坩埚(1)底部至下法兰(4)上表面距离,上端圆柱体外径与底层石墨保温层(2)测温孔内径相同,下端圆柱体外径与下法兰(4)测温孔内径相同,在直径最大处对称、均匀设置数个倾斜通槽(3‑2),使用时,测温孔自清理装置(3)上端直管插入底层石墨保温层(2)测温孔中,顶端不与生长坩埚(1)底部接触、底端伸入下法兰盘(4)测温孔中。
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