[实用新型]基材膜剥离装置及偏光膜制造装置有效

专利信息
申请号: 201420305497.3 申请日: 2014-06-10
公开(公告)号: CN203919955U 公开(公告)日: 2014-11-05
发明(设计)人: 井上龙一;祝部学 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: B32B38/10 分类号: B32B38/10;B32B37/12;B32B37/10;G02F1/13;B29D7/01
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 岳雪兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 实用新型提供一种基材膜剥离装置以及偏光膜制造装置。该基材膜剥离装置利用楔形剥离机构从包含偏光片、贴合在偏光片一侧的保护膜、贴合在偏光片另一侧的基材膜的层积型光学膜上剥离所述基材膜。该基材膜剥离装置具备第一输送机构、楔形剥离机构、卷绕机构和第二输送机构,所述第一输送机构将所述层积型光学膜输送到规定的剥离位置,所述楔形剥离机构设置在所述规定的剥离位置,并从所述层积型光学膜上剥离所述基材膜,所述卷绕机构卷绕被剥离的所述基材膜,所述第二输送机构输送被剥离了所述基材膜的所述层积型光学膜。通过该剥离机构,能够从层积型光学膜上顺畅、干净地剥离基材膜。
搜索关键词: 基材 剥离 装置 偏光 制造
【主权项】:
一种基材膜剥离装置,其特征在于,其从包含偏光片、贴合在偏光片一侧的第一保护膜、以及贴合在偏光片另一侧的基材膜的层积型光学膜上剥离所述基材膜,该基材膜剥离装置具备:第一输送机构,其将所述层积型光学膜输送到规定的剥离位置;楔形剥离机构,其设置在所述规定的剥离位置,并从所述层积型光学膜上剥离所述基材膜;卷绕机构,其卷绕被剥离的所述基材膜;第二输送机构,其输送被剥离了所述基材膜的所述层积型光学膜。
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