[实用新型]一种凹印设备双张力控制结构有效

专利信息
申请号: 201420301704.8 申请日: 2014-06-07
公开(公告)号: CN203976045U 公开(公告)日: 2014-12-03
发明(设计)人: 沈勇峰 申请(专利权)人: 浙江恒力装饰材料有限公司
主分类号: B65H23/26 分类号: B65H23/26
代理公司: 代理人:
地址: 312000 *** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了一种凹印设备双张力控制结构,包括第一导向辊、第二导向辊、第三导向辊、气缸、摆臂、第一摆辊、第二摆辊,所述气缸的伸缩杆与摆臂上部活动联接,摆臂顶端与凹印设备固定连接,摆臂中部设有限位支架,摆臂上部自上而下分别设置第一摆辊以及第二摆辊,位于摆臂的一侧且与第一摆辊和第二摆辊的走料相适配的位置自上而下分别设置有第一导向辊、第二导向辊和第三导向辊。所述的摆臂摆动幅度a不大于30度。本实用新型在实际印刷生产中,就可以根据薄膜材料的张力要求,灵活改变料膜走料方式即可实现双张力控制,从而能够满足多种材料的张力控制要求。
搜索关键词: 一种 设备 张力 控制 结构
【主权项】:
一种凹印设备双张力控制结构,其特征在于:包括第一导向辊(1)、第二导向辊(2)、第三导向辊(3)、气缸(4)、摆臂(5)、第一摆辊(6)、第二摆辊(7),所述气缸(4)的伸缩杆与摆臂(5)上部活动联接,摆臂(5)顶端与凹印设备固定连接,摆臂(5)中部设有限位支架(8),摆臂(5)上部自上而下分别设置第一摆辊(6)以及第二摆辊(7),位于摆臂(5)的一侧且与第一摆辊(6)和第二摆辊(7)的走料相适配的位置自上而下分别设置有第一导向辊(1)、第二导向辊(2)和第三导向辊(3)。
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