[实用新型]一种光配向掩膜版有效
| 申请号： | 201420288336.8 | 申请日： | 2014-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN203882088U | 公开（公告）日： | 2014-10-15 |
| 发明（设计）人： | 刘濂;盛科;王永刚;汤雅芸;王海宏;焦峰 | 申请（专利权）人： | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/44 | 分类号： | G03F1/44;G02F1/1337 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 210033 江苏省南京市仙林大道科*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种光配向掩膜版，其包括曝光区域和非曝光区域，其中曝光区域有四个曝光图形，非曝光区域有条形码、特征码，其特征在于：非曝光区域还包括第一刻度尺和第二刻度尺。本实用新型通过提供一种具有刻度尺的掩膜版，可迅速找到掩膜版刮伤位置，缩短故障检出时间，提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 | ||
【主权项】：
一种光配向掩膜版，其包括曝光区域和非曝光区域，其中曝光区域有四个曝光图形，非曝光区域有条形码、特征码，其特征在于：非曝光区域还包括第一刻度尺和第二刻度尺。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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