[实用新型]去PSG机配酸系统有效
| 申请号： | 201420269990.4 | 申请日： | 2014-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN203950786U | 公开（公告）日： | 2014-11-19 |
| 发明（设计）人： | 张军虎;周天贤;曹允波 | 申请（专利权）人： | 江阴鑫辉太阳能有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 江阴市同盛专利事务所(普通合伙) 32210 | 代理人： | 唐纫兰;曾丹 |
| 地址： | 214426 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种去PSG机配酸系统，它包括供酸罐（1），供酸罐（1）上引出供酸总管（2），供酸总管（2）上分出四根供酸支管（4），其特征在于供酸支管（4）的末端通往恒压桶（5）的进液口，恒压桶（5）的外侧引出一根恒压检测管（6），恒压检测管（6）上从下至上依次设置有低液位传感器（6.1）、中液位传感器（6.2）、高液位传感器（6.3）以及超高液位传感器（6.4），恒压桶（5）的出液口通过进酸管（7）连接去PSG机（8）上的配酸槽（9）的进液口。本实用新型去PSG机配酸系统具有能够保证去PSG机进酸量准确，保证产品质量的优点。 | ||
| 搜索关键词： | psg 机配酸 系统 | ||
【主权项】：
一种去PSG机配酸系统，它包括供酸罐（1），供酸罐（1）上引出供酸总管（2），供酸总管（2）上分出四根供酸支管（4），其特征在于供酸支管（4）的末端通往恒压桶（5）的进液口，恒压桶（5）的外侧引出一根恒压检测管（6），恒压检测管（6）的上端以及下端分别连接恒压桶（5）的上段以及下段，恒压检测管（6）上从下至上依次设置有低液位传感器（6.1）、中液位传感器（6.2）、高液位传感器（6.3）以及超高液位传感器（6.4），恒压桶（5）的出液口通过进酸管（7）连接去PSG机（8）上的配酸槽（9）的进液口，所述供酸支管（4）上设置有第一气动阀（10），所述进酸管（7）上设置有第二气动阀（11）。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江阴鑫辉太阳能有限公司，未经江阴鑫辉太阳能有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201420269990.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种晶圆承载装置和晶圆承载系统
- 下一篇：一种用于螺旋线行波管慢波的夹持夹具
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
