[实用新型]磁控溅射圆柱靶的靶芯结构

摘要

本实用新型公开了一种磁控溅射圆柱靶的靶芯结构，它是真空镀膜技术中磁控溅射镀圆柱靶的核心部分，它在靶管内部，在芯铁上面安装有多条长条形强磁钢，两个端部装有两条弱磁钢，芯铁外面有封闭的不锈钢罩隔水装置，防止磁钢浸在水里，这样可以延长磁钢的使用寿命，节约磁钢，解决了磁控溅射圆柱靶的靶材两端溅射后出现凹槽的缺陷，使靶材的利用率提高一倍。它解决了磁控溅射圆柱靶使用中磁钢使用寿命短，靶材利用率低的两个技术难题。

主权项

磁控溅射圆柱靶的靶芯结构，包括圆柱靶管以及其内设的靶芯，所述靶芯包括芯铁、至少三条长条形强磁钢以及配重，其特征在于，所述芯铁上设置有至少三条长条形沟槽，所述长条形沟槽的上面安装有强磁场均匀的长条形强磁钢，所述长条形强磁钢的两端各安装有弱磁钢，所述弱磁钢的磁场强度为位于中间安装的长条形强磁钢的磁场强度的30%至60%，所述芯铁的外面设置有只用来密封长条形强磁钢和弱磁钢的不锈钢罩装置，该装置是由不锈钢薄板偎成盒子，罩在长条形强磁钢和弱磁钢上，不锈钢盒子与芯铁之间通过橡胶板密封，并使用螺钉压紧固定，所述长条形强磁钢、弱磁钢和配重的外面罩有热缩管，并通过热缩管将靶芯、长条形强磁钢、弱磁钢以及配重的完全密封住。