[实用新型]一种真空溅射镀膜靶材有效
| 申请号： | 201420001631.0 | 申请日： | 2014-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN203683650U | 公开（公告）日： | 2014-07-02 |
| 发明（设计）人： | 陈春玲;黄威智;方家芳 | 申请（专利权）人： | 昆山全亚冠环保科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林;汪庆朋 |
| 地址： | 215300 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空溅射镀膜靶材，包括溅镀面，所述溅镀面包括第一水平面（2）和与第一水平面（2）依次连接的第一斜坡面（3）、增高溅镀面（4）、第二斜坡面（5）及第二水平面（6）；第一斜坡面（3）与第一水平面（2）组成第一斜坡角，所述第二斜坡面（5）与第二水平面（6）构成第二斜坡角。本实用新型通过改变靶材的溅镀面形状及厚度，来调整靶材与基材之间的磁场，使电压平稳，从而使靶材的预溅镀时间缩短，提高了靶材的使用率，薄膜质量提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 溅射 镀膜 | ||
【主权项】：
一种真空溅射镀膜靶材，包括溅镀面，其特征在于，所述溅镀面包括第一水平面（2）和与第一水平面（2）依次连接的第一斜坡面（3）、增高溅镀面（4）、第二斜坡面（5）及第二水平面（6）；所述第一斜坡面（3）与第一水平面（2）组成第一斜坡角，所述第二斜坡面（5）与第二水平面（6）构成第二斜坡角。
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