[发明专利]一种用于生产光学薄膜的涂布系统有效

专利信息
申请号: 201410846587.8 申请日: 2014-12-31
公开(公告)号: CN104588280B 公开(公告)日: 2017-01-04
发明(设计)人: 常国岭 申请(专利权)人: 昆山乐凯锦富光电科技有限公司
主分类号: B05C11/11 分类号: B05C11/11;B05C11/10;B05C1/08
代理公司: 石家庄冀科专利商标事务所有限公司13108 代理人: 李羡民,郭绍华
地址: 215300 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种用于生产光学薄膜的涂布系统,包括储料部分,供液部分和涂布部分,所述储料部分包括回流管、涂料补液管、搅拌装置、供液槽、球阀、循环泵、过滤器、供液管、接液盘,供液部分包括涂布槽、进料口、涂料均化器出口,涂布部分包括涂布辊,刮刀装置,基膜,在涂布槽的底部设有至少一个聚集粒子收集槽,聚集粒子收集槽的宽度与深度的比值为1~5,在涂布槽侧面设有涂料均化器和涂料流速控制装置,涂料均化器的截面为梯形。本发明避免了在供液系统中因单点和多点供料造成的混合不均匀,解决了涂覆光学膜存在的质量弊病如拉丝、暗纹、条道等质量问题,实现了光学膜的不停机连续生产。
搜索关键词: 一种 用于 生产 光学薄膜 系统
【主权项】:
一种用于生产光学薄膜的涂布系统,包括储料部分,供液部分和涂布部分,所述储料部分包括回流管(1)、涂料补液管(2)、搅拌装置(3)、供液槽(4)、球阀(5)、循环泵(6)、过滤器(7)、供液管(8)、接液盘(9),供液部分包括涂布槽(10)、进料口(12)、涂料均化器出口(15),涂布部分包括涂布辊(16),刮刀装置(17),基膜(18),其特征在于,在涂布槽(10)的底部设有至少一个聚集粒子收集槽(11),聚集粒子收集槽(11)的宽度与深度的比值为1~5,在涂布槽(10)侧面设有涂料均化器(13)和流速控制装置(14),涂料均化器(13)的截面为梯形。
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