[发明专利]单透镜近远场基准装置有效

专利信息
申请号: 201410833519.8 申请日: 2014-12-23
公开(公告)号: CN104536149A 公开(公告)日: 2015-04-22
发明(设计)人: 唐顺兴;朱健强;朱宝强;郭亚晶;惠宏超 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G02B27/30 分类号: G02B27/30
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯;张宁展
地址: 201800 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种单透镜近远场基准装置。本发明采用单透镜同时将光束近场和远场成像在CCD上,CCD作为近、远场的共同基准,从一幅图像中既获得自动准直必须的光束的近场,又获得光束的远场,通过一幅图像就可以处理出光束与基准的偏差。与传统分离设计的近远场准直基准相比,光路更加紧凑,通过简化准直光路及减少图像处理数据量,进而提高自动准直速度。该近远场基准装置结构简单,易于实现,可有效提高自动准直图像数据获取和处理速度。
搜索关键词: 透镜 近远场 基准 装置
【主权项】:
一种单透镜近远场基准装置,其特征在于:该装置包括沿待准直光束输入方向依次的主透镜(1)、平行平板(2)和CCD(3),所述的平行平板(2)位于所述的主透镜(1)的焦点之前,所述的平行平板(2)的法线方向和所述的CCD(3)的像面法线方向均与所述的主透镜(1)的光轴严格平行,所述的CCD(3)的像面位于主光束经所述的平行平板(2)二次反射的汇聚点上,所述的CCD(3)的输出端与计算机(4)的输入端相连。
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