[发明专利]一种掩膜版清洁装置及其清洁方法在审
| 申请号： | 201410817986.1 | 申请日： | 2015-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN104492761A | 公开（公告）日： | 2015-07-29 |
| 发明（设计）人： | 江元铭;张鹏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/02 | 分类号： | B08B7/02 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种掩膜版清洁装置及其清洁方法，涉及显示技术领域，能够在不增加污染介质，不损伤掩膜版表面的情况下，解决掩膜版污染的问题。在清洁时间内，将干冰颗粒群以340m/s～1000m/s的速度朝着所述掩膜版的表面进行喷射，所述干冰颗粒群中的干冰颗粒对所述掩膜版的表面进行撞击。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 清洁 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种掩膜版清洁方法，其特征在于，包括：在清洁时间内，将干冰颗粒群以340m/s～1000m/s的速度朝着所述掩膜版的表面进行喷射，所述干冰颗粒群中的干冰颗粒对所述掩膜版的表面进行撞击。
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